전체 글 썸네일형 리스트형 Photolithography 내용 정리 - 2 안녕하세요 Photo lithography 공정 중 Cleaning, Vapor prime, Spin Coating을 정리하려고 합니다. 전 게시글에서도 봤던 그림을 다시 가져왔어요. Cleaning과 Prebake/Waper Prime(위 그림에는 없네요..ㅎ), 그리고 Spin coating을 알아보겠습니다. 1. Cleaning 먼지의 크기는 굉장히 작습니다. 그러나 반도체 공정에 있어서 이러한 Particle 들은 굉장히 치명적입니다. Yield(수율)을 떨어뜨리는 요인이에요. 이러한 Particle들, 그 외 화학 산화막, 유기물, 이온, 금속등을 제거하기 위해서 Cleaning을 진행합니다. 위 표는 RCA Cleaning이라는 것입니다. 웨이퍼를 만들고 최초로 진행되는 Cleaning인데요... 더보기 Photolithography 내용 정리 - 1 안녕하세요 이번시간에는 Photo lithography 가 무엇인지 간략히 정리하려고 합니다. Photo lithography를 알아보기에 앞서, Litho graphy가 뭔지 알아보도록 해요. Lithography는 라틴어로 Litho(돌) graphein(쓰다)에서 유래되었다고 해요. 즉 석판화를 의미하는데요. 이런식으로 압력을 가해 물리적으로 찍어내는 석판기술 입니다. 그렇다면 Photo lithography는 뭘까요? Photo lithography는 빛을 이용해서 기판 위에 마스크의 패턴을 그대로 전사하는 공정입니다. Lithography와 비슷하기 때문에 Photo lithography라는 이름이 붙여졌어요. 잘 이해가 안되실 수도 있으니 프로세스 순서를 보면서 설명하도록 할게요. 처음의 Ma.. 더보기 이전 1 다음
